冶金化工用EDI超純水設(shè)備是結(jié)合了電滲析與離子交換兩項技術(shù)各自的特點而發(fā)展起來的一項新技術(shù),與普通電滲析相比,由于淡室中填充了離子交換樹脂,大大提高了膜間導電性,顯著增強了由溶液到膜面的離子遷移,破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現(xiàn)象,提高了極限電流密度;與普通離子交換相比,由于膜間高電勢梯度,迫使水解離為H+和OH-,H+和OH-一方面參預(yù)負載電流,另一方面可以又對樹脂起就地再生的作用,因此EDI不需要對樹脂進行再生,可以省掉離子交換所必需的酸堿貯罐,也減少了環(huán)境污染。
因考慮的因素有:您的實驗用途(實驗項目名稱)、水質(zhì)需求、水量需求、源水水質(zhì)情況,以及您對取水方式、安裝擺放、產(chǎn)品外觀的需求,根據(jù)以上的需求來選擇更適合您的超純水設(shè)備,不但給您的實驗工作帶來方便而且更省心。如何正確選用超純水設(shè)備。
1、用途:
根據(jù)其用途如實驗項目,可以大致確定選哪一類機型(P、U、C類)。
2、水質(zhì):
若有具體的水質(zhì)要求,可由此選定哪種機型如JY、FZ、WL等機型源水水質(zhì):
源水發(fā)黃,硬度高,源水TDS值高即含鹽量高,需另加可選附件。
3、高峰用水量:
根據(jù)高峰水理可以選擇貯水裝置之容量。
4、取水方式:
是否需要出水壓力(作為其它使用儀器的進水壓力);是否與軟管連接取水、是否需快速大量取水等。
5、安裝擺放要求:
擺放空間,進水、排立口遠近,儲水箱與主機允許擺放位置 。
6、其他要求:
特殊需求、量身定做。
冶金化工用EDI超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域:電子行業(yè)的電路板清洗、單晶硅、半導體片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元件生產(chǎn)工藝用水都需要用純水。